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二硅化钼电热元件的工作方式主要有两种：间歇性工和连续性工作。
（1）二硅化钼元件在实验电炉，梭式窑等窑炉都是间歇性工作方式。在这种工作环境下，电热元件表在加热与冷却的热应力过程中，元件表面的石英保护膜会因热胀冷缩而开裂，最后导致脱落。下次升温时，保护膜会重新产生，但脱落处会因为保护膜的产生而形成凹坑，经过一定次数的交替后，最细处会因不堪高温而断裂。
（2）隧道窑的工作方式是连续性的，元件在这种环境中工作时，元件表面与内部所承受的热应力过程是基本一致的，所以表面的保护膜在相当长的时间内是稳定的，这样元件的氧化速度就很慢。长时间使用后，保护膜会变薄，当元件表面的硅浓度不足以形成石英保护膜时，会发生游离钼的氧化挥发，并在新的硅化钼表面生成石英玻璃保护膜。如此反复不断的挥发与生成，元件则会越用越细，最终导致元件最细处超负荷而断裂。
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